Projekt ma na celu przygotowanie dokumentacji oraz przeprowadzenie procedur patentowych w Polsce, a także rozszerzenie ochrony polskiego zgłoszenia patentowego w europejskim urzędzie patentowym (zgodnie z procedurą EURO/PCT) oraz walidację uzyskanego patentu w wybranych krajach Unii Europejskiej takich jak: Belgia, Czechy, Francja, Hiszpania, Holandia, Litwa, Łotwa, Niemcy, Włochy, i poza UE: Chiny, Rosja, Ukraina. Do ochrony patentowej zgłoszone zostaną układy wykorzystywane do pomiaru parametrów optycznych (współczynniki załamania, dwójłomność) oraz geometrycznych (np.: grubość warstwy) przy pomocy układów mikrointerferencyjnych o zmiennej (w sposób ciągły) długości fali. Pomiary te odgrywają kluczową rolę we wszystkich procesach nanotechnologicznych, szczególnie w produkcji materiałów elektronicznych i opto-elektronicznych. Pomiary wymienionych powyżej parametrów umożliwiają kontrolowanie i optymalizowanie procesu produkcyjnego jak również opracowywanie zupełnie nowych technologii, co ma szczególne znaczenie w przypadku nanotechnologii. Zabezpieczenie wartości intelektualnej na terenie Polski oraz innych Państw UE i poza UE pozwoli na zwiększenie konkurencyjności firm, w tym polskich na rynkach globalnych, korzystających z opracowanych rozwiązań.
W latach osiemdziesiątych prof. M. Pluta zaproponował nową technikę interferometryczną, polegającą na stosowaniu światła monochromatycznego o zmiennej, w sposób ciągły długości fali (VAWI VAriable Wavelength Interferometry). Technika ta przedstawiona w różnych wariantach w kilku renomowanych zagranicznych i krajowych czasopismach naukowych, usuwa niedokładności i źródła błędów w sytuacjach, kiedy jednoznaczna identyfikacja zerowego prążka interferencyjnego w obrazie interferencyjnym badanego przedmiotu jest niepewna. Uniemożliwia to określenie tzw. uogólnionego rzędu interferencyjnego (wielkości związanej z przesunięciem pola prążkowego w obiekcie względem pola poza nim) podstawowej wielkości fizycznej mierzonej w klasycznych układach interferometrycznych, z której wylicza się parametry optyczne badanego obiektu. Klasyczna technika VAWI umożliwiała przede wszystkim poprawną identyfikacja rzędów interferencyjnych w obszarze badanego przedmiotu, wkrótce jednak została rozbudowana umożliwiając stworzenie systemu interferometrycznego o licznych zastosowaniach. Dużą zaletą techniki VAWI jest możliwość pracy bez stosowania uciążliwych cieczy immersyjnych jak i konieczności wyznaczania przesunięcia układu prążków interferencyjnych, przy jednoczesnym zwiększeniu dokładności pomiaru w stosunku do konwencjonalnej interferometrii. W końcu lat dziewięćdziesiątych powstał w Instytucie Optyki Stosowanej automatyczny mikrointerferometr VAWI w świetle przechodzącym dia. Przy użyciu tego urządzenia można mierzyć elementy przezroczyste jak cienkie warstwy i światłowody. Szczególnie ważne zastosowania tej metody przewiduje się przy produkcji i testowaniu nowych materiałów półprzewodnikowych oraz metamateriałów charakteryzujących się niestandardowymi własnościami optycznymi. Jednocześnie, ze względu na dynamiczny rozwój nanotechnologii z zastosowaniem nowych, inteligentnych materiałów pojawiło się zapotrzebowanie na badania interferencyjne w świetle odbitym. W 2007 roku powstał, również w Instytucie, system VAWI w świetle odbitym epi. Automatyczne systemy VAWI oferowały radykalnie większą precyzję. Wizualna ocena przesunięcia prążka pozwala przeciętnie na pomiar z dokładnością do /10, czasem /20. Automatyczna analiza pola prążkowego metodami cyfrowego przetwarzania obrazu pozwala na podniesienie dokładności do /100 (a w szczególnych przypadkach nawet /500) i znaczne skrócenie czasu pomiaru. W ramach niniejszego projektu będą opatentowane dwa układy mikrointerferometryczne, pierwszy w układzie dia, drugi w układzie epi. W obu układach zwykle wykorzystywano standardowy mikroskop polaryzacyjnointerferencyjny, który składał się z następujących elementów optycznych: polaryzatora i analizatora, kondensora z przesłoną szczelinową, obiektywu o powiększeniu 10x, 20x i 40x (obliczonych na skończoną długość tubusu 160 mm, przyjętych jako standard w Polskich Zakładach Optycznych). System zawierał również dwa pryzmaty dwójłomne: obiektywowy (umieszczony w oprawie obiektywu) i tubusowy. Przy patentowaniu nowych układów opisany system będzie traktowany jako stan wiedzy. Nowe układy interferometryczne będą zawierały inne źródła światła, zmodyfikowane obiektywy oraz w nowatorski sposób będzie uzyskiwane światło monochromatyczne. Zdolność patentową będą miały następujące podzespoły: Układ oświetleniowy; Układ optyczny z filtrem LCD Lyota do otrzymywania światła monochromatycznego o wybranej długości fali, zastępujący zespół klasycznego liniowego filtru interferencyjnego oraz polaryzatora; Układ optyczny z alternatywnym monochromatorem siatkowym, charakteryzujący się architekturą dopasowaną optycznie do układu interferometru, również zastępujący klasyczny liniowy filtr interferencyjny; Zespół pryzmatów dwójłomnych dopasowanych optycznie do obiektywów mikroskopowych 10x, 20x, 40x obliczonych na nieskończoną długość tubusa, co poprawia jakość obrazu prążkowego i zwiększy dokładność metody;